DUV光刻機供應或再生變數，ASML態度明確，倪光南院士說準了

ASML作為光刻機行業的巨頭，以EUV光刻機聞名世界，而且EUV光刻機還是“限購”，每年只生產50臺。 除了EUV光刻機外ASML還有一種類型的光刻機是DUV光刻機，這種光刻機和EUV光刻機還是有一定差別。

我國為了芯片的研究與發展，每年都在苦苦等待光刻機。前段時間ASML本已經出貨交付的光刻機如今再生變數，到底發生了什么事情？

一、DUV光刻機與EUV光刻機

光刻技術的開發本質就是圍繞光的波長進行的。光刻技術是利用光學復制的方法把超小圖樣刻印到半導體薄片上來制作復雜電路的技術，所以光的應用是整個刻劃技術的關鍵。而光也有很多種，按光的波長來劃分有可見光、紅外光、激光、紫外光、X光等。

自20世紀50年代以來，光刻技術經歷了紫外全譜（可見光）、g 線（波長436nm）、深紫外（DUV，波長193nm）、極紫外（ExtremeUltraviolet，簡稱 EUV，波長 13.5nm）等幾個階段。

DUV光刻機與EUV光刻機的主要區別在于波長。因為不同光源的光刻機都有自己的分辨率極限，而且光刻機對芯片的制造非常重要。光刻每提升一個階段，光源的波長就下降一個檔次，刻出的集成電路圖形也更精細，同樣硅片上容納的晶體管就更多，性能會更強。

目前尼康和ASML的DUV光刻機可以實現的晶體管特征線寬不低于10nm。但是想要實現晶體管特征線寬達到7nm那么就只有ASML的EUV光刻機了。

二、ASML光刻機出貨風波

要知道因為美國的禁止和ASML的限制，ASML面向中國銷售的光刻機基本都是DUV光刻機，并沒有EUV光刻機。就連前一段ASML向中國交貨的光刻機基本都是DUV光刻機。

而這段時間連DUV光刻機交貨也并不順利。根據外媒消息，美國打算禁止ASML向中國銷售DUV光刻機。

但是ASML卻明確表示反對。當初限制EUV光刻機的時候，ASML并沒有什么異議是因為EUV光刻機一年總共才生產50臺，供不應求。就算沒有中國市場，依然有公司搶破了頭去買。

根據ASML2020年三季度業績報顯示，第三季度的新增訂單達到了 29億歐元，其中5.95億歐元來自 4臺EUV設備。由此可見，EUV光刻機從來不缺市場。

但是DUV光刻機就不一樣了，畢竟光波略遜一籌。而且市場上有尼康等企業競爭，如果限制了DUV光刻機對中國的出口，ASML將會完全失去中國市場。

但是ASML雖然反對，但是結果卻未知，畢竟ASML與美國淵源之深。ASML成立之初許多專利來自美國的EUV LLC聯盟，美國的Cymer公司研發出EUV所需的大功率光源，也是光刻機的核心零件被ASML以25億美元并購，這也是美國默許的。

而且ASML與美國還達成多項戰略協議，所以ASML從市場決策和營收角度來看是反對美國的策略。但是結果如何卻是暫時未知的。

三、關于核心技術

正如倪光南院士在互聯網大會上所說的一樣：中國互聯網發展核心技術不可受制于人。光刻機技術甚至華為芯片等事件不正是印證了“核心技術不可受制于人”。

或許有人不知道倪光南院士是誰，倪光南院士的一生都在為中國計算機和芯片而努力。他創造了“聯想式漢卡”，聯想式漢卡和聯想微機分別于1988年和1992年獲國家科技進步一等獎，同時倪光南院士在1994年成為中國首批工程院院士。

倪光南院士為聯想創造了近百億的利潤。雖然后來他被聯想解除了職務，但是他并沒有放棄對芯片的研發和中國科技的獨立自主。如果當初聯想走了倪光南的技術路線現在的聯想是否會成為一個代工廠？我國的科技是否還會受到打壓？誰也沒辦法回答，歷史唯一能印證的便是倪光南院士所言非虛。

結語：

近幾年我國的EUV技術發展十分迅速，單EUV專利便申請了幾百項。但是只有EUV是不夠的，光刻機是一臺十分精密尖端的儀器，不可否認對于光刻機的研發我國還有一段距離。

但是歐美對我國技術的封鎖也能看出，我國的EUV技術超乎他們的預料。為了限制我國的科技發展，歐美等國家再次聯起手來。只是中國已經不是以前的中國，面對歐美的“卡脖子”突破是唯一的出路。

面對美國的“掐脖子”、ASML的態度、倪光南院士的科技路線你有什么看法嗎？

本文轉自:財經課堂