中芯國際14nm芯片已經實現量產，未來能否突破歐美封鎖？

中芯國際早在2019年就已經實現14納米芯片工藝風險量產，目前已經實現大規模量產，而且良品率已經達到國際先進水平。

除了14納米工藝之外，目前中芯國際的N+1，N+2工藝也取得了一定的成績，假以時日不排除他們能夠實現7納米工藝的量產。

中芯國際能夠取得這個成績可喜可賀，這已經是我國最先進的芯片工藝了，這對于緩解外部限制，滿足國內一些高端芯片的需求具有重要的意義。

但是中芯國際之所以能夠取得這個成績，從某種程度上來說主要依賴國外一些供應商提供的關鍵零部件，短期內他們根本不可能突破美國的封鎖。

實際上中芯國際在生產14納米芯片的過程當中也并非一帆風順，目前中芯國際有很多零部件仍然依靠從外部進口，一旦這些核心零部件被限制了，對中芯國際的生產同樣會產生很大的影響。

只不過在2021年3月份的時候，美國已經批準美國一些先進設備廠家對中芯國際供應14納米及以上成熟工藝制程的供應許可，這才能夠讓中芯國際順利生產14納米芯片，當然這個前提是中芯國際也做出了讓步，那就是不能代工H為的芯片。

但即便中芯國際能夠實現14納米及以上工藝制程的量產了，也不能高產無憂，畢竟目前有很多零部件仍然掌握在國外供應商的手里。

芯片制造是非常復雜，也是非常高端的一項制造業，這里面需要用到很多高端設備，但是按照目前我國芯片產業鏈的實際情況來看，很多高端設備都沒法自己生產，仍然嚴重依賴進口。

提到芯片制造的核心零部件，很多人可能簡單地理解為就是光刻機，但其實芯片制造涉及的零部件非常多，不只是光刻機這么簡單。

單純從光刻機的角度來看，目前我們跟國際先進水平確實有很大的差距，目前我國真正能夠實現量產的光刻機是由上海微電子生產的28納米光刻機，這個光刻機通過多次曝光之后，也許能夠用于生產14納米的芯片。

但是目前國際最先進的光刻機是由荷蘭asml提供的EUV光刻機，它已經實現了7納米技術的突破，而且5納米很快也會推出來。

只不過因為一些特殊的原因，asmL生產的EUV光刻機并不會對中國出口，他們生產出來的一些高端光刻機只會優先供應給臺積電，三星，英特爾等一些廠家，這也是為什么這些芯片廠家能夠在國際芯片市場當中占據巨大優勢的重要原因。

假如短期內我們沒法進口這些高端光刻機，單憑國內的光刻機供應，根本不可能縮小跟國際頂尖水平的差距。

當然除了光刻機有很大差距之外，實際上在芯片制造過程當中所需要的很多零部件，我們跟國際也有很大差距，尤其是一些關鍵的核心零部件，仍然嚴重依賴進口。

比如下圖是芯片生產涉及的各種設備以及材料的國產替代率情況。

從這個數據可以看出，目前我有很多設備以及材料仍然嚴重依賴進口，國內能夠完全替代進口產品的廠家并不多。

即便有一些廠家生產出的設備或者材料能夠替代部分進口產品，但是性能想要達到國際進口產品的標準，仍然有一定的差距，這也是為什么目前國內很多芯片制造廠家大量從外國進口設備的重要原因。

而且在我們進口的這些核心零部件以及材料當中，很多都是從歐美日進口，其中從美國進口的零部件其實很多，比如蝕刻 ( etching ) 、微影 ( lithography ) 與晶圓清洗機 ( wafer cleaning ) 等制程設備、測試機臺，設備運作相關耗材等等。

不過最近幾年時間，我國對芯片產業越來越重視，投入力度也越來越大，芯片制造產業鏈上的一些設備和材料已經開始出現一些國產設企業，而且未來隨著國產設備的不斷進步，我相信始終有一天會替代大部分進口產品。

目前芯片生產所需要的很多設備和材料，其實我國也有相應的廠家可以替代。

比如光刻機有上海微電子以及華創清科；蝕刻機北方華創、中微；離子注入機有萬業，中科信；爐管設備有北方華創，晶盛機電；檢測設備有精測電子、華峰測控、長川科技等等。

另外在材料供應商方面，國內也有越來越多的企業能夠提供替代方案，比如中環股份、滬硅產業可以提供硅片；江豐電子、有研新材可以提供靶材；上海新陽能夠提供高純度試劑，；華特氣體、南大光電能夠提供特種氣體；安集科技可以提供拋光材料，南大光電、晶瑞電材可以提供光刻膠等等。

雖然這些國產設備以及材料供應商跟國際頂尖水平仍然有一定的差距，但隨著市場的不斷拓展，隨著技術的不斷進步，我相信未來有一天國產設備肯定能夠逐漸縮小跟國際頂尖水平的差距。

本文轉自:天蝎財經