中芯國際做對了?
臺積電已經是量產5nm,且3nm和2nm工藝也將開始新的工作,現在手機上如果不是5nm工藝的芯片,廠商都不好意思開個發布會,所以很多情況下都以為,現在芯片應該出手就是5nm,而那些28nm甚至90nm的工藝就是“笨重”、“落后”的代名詞,所以這里也就能夠理解,當初龍芯總設計師胡偉武表示沒必要追5nm、干好當下工藝被噴的原因了,畢竟現在似乎是人手5nm。
隨著美企不斷的斷供,俄也同樣面臨著這樣的問題,于是俄就開始行動,一個就造EUV光刻機,另一個就是造自己的芯片,但是它的計劃就是從90nm開始干起,短期目標是28nm,要知道28nm工藝臺積電在2011年的時候就已經開始做到了,而這是俄在2030年的目標,所以這一刻就更加懂中芯國際的做法了!而國內院士的呼吁,也早該重視!
28nm,夠用!
如果說28nm的工藝芯片夠用,那肯定會被噴說是不思進取。
但是在去年,甚至是在前年,中芯國際多次布局、增產28nm領域,而臺積電,更是欲將在南京擴大28nm的產能,甚至還將月產、擴產速度給提速很多,那個時候一時間多人對臺積電的做法表示不滿,甚至認為這是在搶中芯的訂單。
時間來到2022年4月左右,也就是近期美企不斷地對俄采取措施之后。
一些美企的斷供咱這里就不多說了,主要就是想說一些半導體方面的事情。
就從現在的情況來看,他們也是很難獲得新的芯片“進賬”,那怎么辦呢?還是得自己造。
于是俄就傳來了兩個動作,一個是造芯,一個是造芯所需要的設備,造EUV光刻機。
其實說實話,俄的目標還是挺厲害的,一個目標就對準了EUV光刻機,這臺設備其技術難度不用分說,但是據說俄將會采用新的光源來解決這個問題,而就在前不久日企也公布了在3D光刻機方面的成績,所以這樣來看,造EUV光刻機也不是那么沒譜的事情。
緊接著就是近期俄宣布的另一個計劃,那就是芯片方面的問題。
其現在的工藝還不是很先進,所以就有消息稱俄欲將計劃在2022年底實現國產90nm芯片,到了2030年實現28nm芯片,其所涉及到的資金更是高達 52 億美元,當然這里面包括的項目多了去,就不單獨說明。
然而這里需要提一下的就是,臺積電早在2011年就量產了28nm,且預計在2026年實現2nm,所以這樣對比,是不是就知道差別了呢?
但是我們的
點不應該是在這個制程落差上有多大,而是在工藝上,在需求上,在自己的生產線上。
前兩年胡偉武就表示,我們應該穩住當下的產線,努力做好手里的事情,不要別人做5nm我們就跟著做,而事實上呢?就比如中芯,在這兩年也是瘋狂地擴建28nm的產能,因為在需求上,28nm能夠解決很多問題,在工藝上,它不算先進,但也不算老,是一個很好的突破點。
倪光南院士表示,28nm芯片能夠量產,也是能夠解決很多科技產品的“換芯”,或許這也就能夠更加明白成熟工藝更為重要的意義吧。
不必著急,穩扎穩打才是硬道理!
本文轉自:隔壁王科技
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