與國產7nm芯片相關，上海正式傳來新消息

全球芯片制造企業中，臺積電和三星的制造技術最為先進，也是目前唯二能夠生產制造7nm以下制程芯片的廠商。

芯片等規則被修改后，臺積電、三星均不能自由出貨，在這樣的情況下，華為等國內全面加速芯片制造等技術的研發進度，目的就是在芯片領域內實現全面突破。

因為7nm等先進制程的芯片，主要用在手機等移動設備上，在可預見的未來，7nm芯片必將成為全球芯片的主流需求，就像當下的28nm芯片成為主流需求一樣。

與國產7nm芯片相關，上海正式傳來新消息

要想生產制造7nm芯片，離不開先進的芯片制造技術、先進的光刻機、ArF 光刻膠以及先進的蝕刻機等。

據悉，中芯國際已經實現了N+1（類似7nm）芯片的小規模量產，而梁孟松又宣布完成了7nm芯片的研發任務，這意味著國內廠商掌握了7nm芯片制造的理論技術。

國產蝕刻機已經用于臺積電5nm芯片生產線中，也就是說，國內已經有了先進的蝕刻機。

2021年初，中芯國際就與ASML簽訂了11億美元的光刻機采購協議，主要是的DUV光刻機，而臺積電也使用DUV光刻機量產了7nm芯片。

再加上，有消息稱，國內已經有了先進的國產光刻機，下一步就規模量產了，這意味著用于生產制造7nm芯片的光刻機也具備了。

如今，上海新陽正式正式傳來新消息，稱公司已有 ArF 光刻膠產品，這意味國產7nm芯片又向邁出了一步。

都知道，ASML的DUV光刻機就采用ArF光源技術，其可以生產制造28nm到7nm等制程芯片，臺積電表示，DUV光刻機甚至可以生產制造5nm制程的芯片。

而ArF 光刻膠產品主要用于28nm到7nm等芯片的生產制造。

用臺積電的話就是，用DUV光刻機在多層曝光工藝之下，是可以量產7nm芯片，臺積電的第一代7nm芯片就是這樣生產的。

總結一下就是，用于生產7nm等芯片的DUV光刻機有了，中芯國際也掌握了7nm芯片生產制造的理論技術，如今又有了ArF 光刻膠。

這意味著國產7nm芯片再進一步，所以才說與國產7nm芯片相關，上海正式傳來新消息。

其實，中芯國際也在全面推進7nm等先進制程芯片的研發、試產等工作。

據悉，中芯國際已經將2022年的資本開支定在50億美元左右，與2021年全年營收相當。

這么高的資本開支，除了用于提升28nm、14nm等芯片的產能外，還用于先進芯片的研發等。

當然，國內加速突破7nm等芯片制造技術，主要有以下幾點原因。

首先，7nm芯片等主要用在手機等移動設備上，而國內市場是全球最大的手機市場，自然對7nm芯片有著巨大的需求。

其次，華為曾是臺積電7nm芯片的最大客戶，可想而知，華為對7nm芯片的需求有多大。

芯片等規則被修改后，國內廠商紛紛推出了自研的7nm芯片，像中興、紫光等，但這些訂單都需要讓臺積電、三星等廠商進行量產。

也就是說，國內有大量的7nm芯片的生產制造需求，這必然會推動7nm芯片的生產制造技術快速進步。

最后，先進制程芯片貢獻的利潤高，臺積電7nm、5nm芯片貢獻了40%的營收，但利潤貢獻比例更高。

再加上，隨著智能聯網汽車以及物聯網時代的到來，7nm芯片的需求還會進一步增加，這自然會進一步促使國內廠商更快的突破7nm芯片的制造技術。

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本文轉自:白蘿卜科技