外媒：ASML沒有時間了

俗話說，出名要趁早。

對于ASML而言，自由出貨也要趁早，因為晚了，市場就是歸別人了，這不是夸大其詞。

都知道，ASML是光刻機巨頭，在全球范圍內，ASML的光刻機制造技術是最先進的，其研發制造的DUV光刻機和EUV光刻機可以說目前還沒有競爭對手。

關鍵是，ASML的EUV光刻機還是各大晶圓廠商擠破頭都想買到的產品。

臺積電為什么產能高、良品率高，因為他拿走了ASML一半的EUV光刻機；

三星為啥良品率不如臺積電，就是因為EUV光刻機數量不足，李在镕都親自協商購買更多。

這么好設備，但ASML卻不能自由出貨，EUV光刻機不僅不能自由出貨，也不能出貨到外企中國分廠。即便是DUV光刻機，出貨也受到了一定的限制。

如今，美又進一步對ASML進行游說，希望ASML進一步收緊國際需求光刻機的出貨范圍，實際上想進一步約束DUV光刻機出貨。

結果在ASML面前碰釘了，因為ASML明確表示中斷DUV光刻機會導致半導體產業鏈中斷，并表示要意識到國內廠商在全球芯片產業鏈中的重要性。

ASML如此強硬的表態，也是歷來首次。

但卻有外媒表示是ASML沒有時間了，必須加速出貨，如果DUV光刻機被進一步約束，那么，ASML的市場就會被進一步瓜分，原因是新技術不斷出現。

首先，芯片制造新技術不斷出現。

要想生產制造芯片，就比必須得有光刻機，這種情況只能放在過去，因為當下的技術，即便是沒有先進的光刻機，也能夠制造出來5nm等制程芯片。

據悉，NIL工藝就是佳能、鎧俠等聯合推出了新的技術，在不使用EUV光刻機，就能將芯片制程縮小至5nm，不僅省下了EUV光刻機的設備錢，還能節約大量的電費。

目前，鎧俠等已經開始用NIL工藝生產制造15nm等制程的芯片，并計劃在全球范圍內推廣該技術。

另外一種技術也實現突破，其就是壓印技術，并實現了紫外硬化納米壓印（UV-NIL）創建 10 納米以下分辨率形貌的突破。

關鍵是，UV-NIL 技術不需要高溫高壓條件，還具有低成本制備媲美光學光刻質量圖形的潛力。

用一句話形容就是，用UV-NIL工藝生產制造10nm芯片的成本更低，過程不復雜。相比DUV、EUV工藝而言，優勢多多，所以ASML必須要加速出貨。

其次，堆疊技術和先進封裝技術的芯片。

要想提升芯片的性能，只能降低芯片的制程，這也成為過去時，因為堆疊技術和先進封裝技術都不需要改變芯片制程，就能夠提升芯片性能。

例如，堆疊技術通過將多核芯片拼接，從而讓多核性能翻倍，蘋果M1 Ultra就是最好的例子；

先進的封裝技術在不改變芯片制程的情況下，可以將芯片性能提升40%，并增加晶體管的密度。

無論是堆疊技術的芯片還是采用先進封裝技術的芯片，都已經開始商用，這相當于進一步降低了對ASML 先進光刻機的依賴。

最后，國產光刻機技術進步很快，光源技術、浸潤系統等都已經取得了突破，更先進的光電芯片也開始進入快速發展階段。

其中，荷蘭已經投資超11億歐元發展光電芯片技術，德國也開始展開相關課題研究。

但是，在光電芯片領域內，華為是處于絕對的領先地位，任正非都明確表示，光電芯片可完全繞開ASML的光刻機。

所以外媒才說ASML沒有時間了，再不加速出貨，其它技術普及后，ASML會更難過。

本文轉自:白蘿卜科技