國產光刻機再傳喜訊，ASML不愿看到的情況正在發生

國產光刻機再傳喜訊，ASML不愿看到的情況正在發生

2010年，ASML正式出貨了全球第一臺EUV光刻機，從那一刻開始，光刻機進入到了極紫外光刻時代，也因為EUV光刻機的出現，將芯片制程的發展進行了提速，同時為了鞏固自己在光刻機市場上的領導地位，ASML要求所有合作伙伴必須投資它，否則就不合作，所以在早期英特爾、三星電子、臺積電等都成為了ASML公司的股東，這么模式讓全球頂級的芯片巨頭都和ASML公司進行了深度捆綁，形成了利益共同體，也是在這種商業模式之下，才導致佳能、尼康光刻機業務的日益衰落。

但是，這種壟斷性質的發展模式也存在著弊端，那就是由于大部分的光刻機訂單都被ASML公司吃掉了，其他光刻機制造公司訂單就小得可憐，繼而就逐步放棄或者放慢了對于光刻機技術的迭代速度，在這種情況之下，ASML公司和其他光刻機公司的差距越拉越大，這就造成了任何芯片制造公司想要發展都需要看ASML的“臉色”。

這也是為什么中芯國際在2018年向ASML公司下訂單后，即便ASML遲遲不交付，也沒有太多辦法進行替代的根本。

而為了擺脫這種受制于人的局面，也為了彌補我們在EUV光刻機領域的“短板”，從2020年開始，我們開始大規模投入對EUV光刻機的研發工作，面對我們的自主研發的行動，ASML公司CEO卻是給出了評論表示，即便是給我們圖紙，我們也無法制造出EUV光刻機。

這話說得有些過于自負了，其實說的簡單一些，光刻機的工作原理就和照相有些類似，只不過照相是把拍攝的東西印在膠卷上，而光刻機卻是通過曝光等方式，在晶圓上刻畫出電路圖。

其中，想要突破EUV光刻機技術最為核心的三大要素就是，光源、鏡頭和雙工作臺，光源方面，EUV光刻機需要的是波長在13.5nm的極紫外光，而在光源方面，ASML公司主要依賴的是從老美手中進口來解決，而之前2021年6月28日，國內首臺高能同步輻射光源科研設備的落地意味著為先進光源的建設、運行和后續發展提供了技術支持，將助力EUV光刻機所需光源的落地。

鏡頭方面由于EUV光刻機對于鏡頭精度有著很高的依賴，所以目前ASML公司唯一依靠的就是德國蔡司，國內相關企業也在努力發展。至于雙工作臺方面，華卓精科正在雙工作臺技術上加速破局，因此其也被稱之為國產光刻機第一股。

而在國內企業、科研單位不斷加碼國產EUV光刻機突破之時，根據8月15日最新消息顯示，國產光刻機再傳喜訊，據悉傳芯半導體公開用于EUV光刻的曝光成像結構、反射式光掩模版組及投影式光刻機專利。這則消息的出爐，意味著我們距離國產EUV光刻機的突破又進了一步。

雖然說，EUV光刻機的制造難度非常大，涉及到的零件眾多，但是我們的企業都在共同努力，所以突破一定是必然的。

而面對著國產光刻機新的喜訊傳來，外媒方面也是傳來評論表示，“ASML不愿看到的情況正在發生”，因為伴隨著我們越來越多的有關于EUV光刻機技術的破局，那么最終國產EUV光刻機必定會出現，屆時ASML公司通過數十年在光刻機市場建立起來的壟斷局面將被徹底打破，屆時ASML公司將蒙受巨大損失。

首先，就單單從ASML公司在2022年一季度的數據來看，其在該季度生產制造了62臺光刻機，其中21臺出口給我們，占據了出產總量的34%，如果說我們自己的EUV光刻機問世，那么ASML公司就會在我們的市場上失去份額，這對于ASML公司自己來說就會是巨大損失。

其次，當我們能夠生產制造EUV光刻機之后，我們就擁有了市場競價權，我們可以以更低的價格進行銷售，這勢必會影響到ASML公司的銷售策略，進而影響到ASML公司的營業總收入。

這樣的局面是可以預見的未來，但是ASML公司卻無法阻止，因為從ASML公司沒有按時交付EUV光刻機給中芯國際開始，就已經注定了ASML公司在全球市場壟斷的局面勢必會被打破。

造成這種局面的存在和出現，ASML只能去怪老美，如果沒有2019年芯片規則的修改，沒有一系列的限制，就不會有我們對于光刻機的執著，ASML公司也可以多逍遙幾年。

你認為我們還需要多久才可以實現EUV光刻機的全面突破呢？

本文轉自:C君科技