ASML走傳統路線將芯片工藝性能提升,但是在后摩爾時代下,先進封裝或將替代了先進制程工藝,成為許多美企追求的目標。一旦芯片行業大規模探索先進封裝,那ASML先進的EUV光刻機或許要被冷落了。
美企對先進封裝有何布局呢?先進封裝能引領半導體黃金十年嗎?
后摩爾時代下,ASML遇上新問題
ASML積極開發下一代的高數值孔徑系統NA EUV光刻機,該款光刻機預計在2024年大規模量產出貨,主要用于2nm及以下芯片的生產。
NA EUV光刻機對臺積電,三星等巨頭生產2nm芯片有重要的幫助,未來量產2nm芯片時,芯片性能會提升到新的層次。但提升幅度也許不會那么大,因為受物理規則的限制,摩爾定律的極限越來越難被打破。
摩爾定律指出,集成電路可容納的晶體管每隔兩年會翻倍。這一理論的側面意思就是芯片工藝可以不斷往下,沒有盡頭。
但事實是芯片性能提升速度已經放慢了,哪怕取得性能突破,也會出現功耗過高的問題。所以未來發展芯片工藝的方式或不再追求改變線寬,降低制程,而這正是后摩爾時代下,ASML遇上的新問題。
試想一下,如果臺積電,三星不再通過采購EUV光刻機提高工藝制程,而是用別的方式獲取芯片性能突破,ASML的EUV光刻機還能被捧上神壇嗎?恐怕會有新的發展方式替代傳統工藝路徑,這種方式就是美企正在大力布局的先進封裝。
美企積極布局先進封裝
有哪些美企大力布局先進封裝技術呢?首先蘋果公司肯定是其中一個。作為全球芯片研發巨頭,蘋果公司不可能沒有探索先進封裝。
為了取得更大的芯片性能突破,蘋果發布的MI Ultra采用的就是先進封裝工藝制造,由臺積電負責代工運用了InFO-LSI 封裝技術,從而將兩顆M1 MAX芯片堆疊在了一起。
蘋果M1 Ultra芯片驗證了先進封裝是可行的,對提高芯片性能有很大的幫助。
其次AMD也在努力探索先進封裝,AMD使用Chiplet(芯粒)技術將芯片堆疊和先進封裝結合,將正式邁入3D封裝的技術領域。
除此之外,英特爾同樣邁出先進封裝的發展道路,聯合高通,微軟等巨頭成立UCIe聯盟,目的是為了統一Chiplet行業標準,使先進封裝技術能夠成為未來。
這么多的美企相繼轉戰先進封裝,顯然已經意識到先進封裝的潛力大于先進制程,與其大量采購ASML的EUV光刻機提高芯片制程,不如從先進封裝入手,用芯片堆疊的思路和方式開創新的半導體市場格局。
分析預測,到2025年先進封裝市場規模將達到430億美元。有外媒對此表示,ASML或會“栽”在美企手里。
若美芯片企業都選擇先進封裝提升性能,那臺積電,三星等代工廠肯定會順應客戶的需求,把產業重心放在先進封裝領域,到時候采購ASML的光刻機就成了次要選擇,沒那么重要了。
更何況ASML準備新一代的NA EUV光刻機量產,舊款EUV光刻機更難出貨了。這樣的產業重心偏移問題,怕是ASML也不好解決。
先進封裝能引領半導體黃金十年嗎?
在傳統的芯片制造產業中,提高芯片制程的方式很簡單,要么是改進芯片架構,要么是使用ASML的EUV光刻機。
在芯片架構方面,可探索的路都探索得差不多了,主流的就是FinFet,GAA等等。而ASML的EUV光刻機發展到高數值孔徑系統就很難往下了,越往下發展難度和成本都會指數級上升。
既然先進封裝能帶來顯著的性能提升效果,因此能引領半導體黃金十年嗎?恐怕很有可能。
未來十年內必定會誕生出新的技術,材料,而先進封裝是后摩爾時代的最佳解決方案之一。臺積電、三星、中芯國際、英特爾等芯片制造商均在布局,而蘋果、AMD、高通的芯片設計廠商同樣對先進封裝感興趣。
當然,先進封裝在未來會走向何處還需要靜觀其變,目前先進制程仍然是半導體巨頭提高芯片性能的主要方式,發展到2nm之后,還會嘗試1.4nm,1nm,甚至進入到更先進的埃米時代。
至于先進封裝能否替代先進制程存在,還是成為未來芯片行業的發展主旋律,就讓我們拭目以待。
總結
ASML著急出貨EUV光刻機,努力提高產能,可是芯片市場正發生產業重心偏移,逐漸將先進封裝當成破局的關鍵。這對于ASML來說,會是一場考驗。
若美企帶動了先進封裝頂替先進制程,ASML估計需要加大先進封裝光刻機的研發了,而在這方面,就未必是ASML的主場了。
對此,你有什么看法呢?
本文轉自:笨鳥科技
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