這么迅速？ASML正式宣布！外媒：這相當于是“連夜”交貨？

芯片是信息產業和互聯網時代的基礎，而光刻機是用來制造芯片的關鍵設備。在芯片行業ASML可謂是鼎鼎大名，因為只有它一家能生產高端的EVU光刻機。EUV光刻機目前是世界上最先進的光刻機，單價近2億歐元，可滿足7nm及以下制程芯片的生產。

我國的高端光刻機基本上都是從國外進口，且等待的時間也很長。例如中芯國際等了三年也沒有等來一臺光刻機。但是如今ASML卻一改往日三年才能交貨的風格，自今年以來已經交付了78臺光刻機，外媒表示這相當于“連夜”交貨，這是什么原因呢？

一、被壟斷的光刻機

光刻機是集成電路（integrated circuit,IC）制造中光刻環節的核心設備，技術含量、價值含量極高。近幾年來，中國的科學技術得到快速發展，華為等企業已經具備較強的芯片開發、制造能力，但是中國的制造業還是沒有辦法把芯片設計有效轉化為產品，其中最主要的原因就是缺乏光刻機等核心設備。

目前，全球的高端光刻機幾乎被荷蘭ASML（阿斯麥）公司所壟斷。荷蘭ASML（阿斯麥）公司是光刻機行業的巨頭，但是阿斯麥向中國出售光刻機有保留條款，禁止給中國自主CPU代工，科研及國防領域的芯片也被限制為小批量生產。

二、我國光刻機的發展

中國的光刻機研發可以追溯到1971年，徐端頤教授帶領團隊研制出中國第一臺光刻機和分步重復照相機。1980年，徐端頤團隊完成了國內第一臺加工最細線寬為0.8微米“自動對準分步投影光刻機”填補了技術空白，這是我國第二代光刻機。

到了1991年，徐端頤團隊研制的第三代“自動對準分步投影光刻機”和該機使用的鏡頭，雙雙榮獲“國家科技成果獎”。看到我國光刻機的研究成果后，美國、日本巴黎等當時世界上主要生產“分步投影光刻機”的國家宣布取消對中國禁止出口光刻機的政令。

至此國內大多客戶轉向國外購買光刻機。我國光刻機的研究也受到了打擊，許多優秀的專家與教授不得不放棄光刻機行業轉向其他行業。你問我為什么沒有ASML（阿斯麥），因為此時這家公司還沒有成立。

三、光刻機的核心

還記得童年時候玩得激光筆嗎？夜晚來臨后再關了燈給激光筆換上不同的燈罩，就可以在墻上照出一個個造型各異的圖案！

我們可以從激光筆的原理了解光刻機的工作原理。光刻機的光也是通過具有圖形的光罩照射，但是光刻機不像我們的激光筆那樣照射到地面或者墻壁上，而是照在一種涂有對光高度敏感材料的薄片上，這種材料叫光刻膠。

光刻膠見光后性質會發生變化，從而將光罩上的圖形“復印”到薄片上來。而這個復制的圖形其實就是光刻機刻的電路圖。通過光刻機的工作原理我們可以得知光刻機的核心部件主要分為兩個部分：對準系統、紫外光源。

四、我國EVU技術的突破

我國光刻機研究止步不前的時候，歐美國家卻迅速發展起來。現如今為了一臺光刻機，每年臺積電和三星都要搶破了頭。我國購買光刻機卻也因為美國的禁止和ASML的限制也是一臺難求而且價格昂貴。

對于歐美科技上的打壓與卡脖子，我國一直都在努力攻破光刻機的技術難題。而通過ASML一改往日的風格，“連夜”給我國企業交付光刻機，近期又公開表示中國市場是其最大的市場，就能看出我國在光刻機技術的研發上已經有所成果。

今年3月，中國科學院上光研究所公布了一項新的EUV專利，名為“極紫外掩模衍射譜的快速仿真方法”。該方法將含缺陷多層膜分為含缺陷部分和無缺陷兩部分，并通過等效膜層法和分割法建模，提供可有效快速仿真極紫外光刻含缺陷掩模衍射譜的快速嚴格仿真方法，這在光刻機的紫外光刻技術上是一項突破。

除了中國科學院上光研究所，中國科學院長光研究所、微電子研究所和高能物理研究所、上海微電子裝備有限公司等，已申請EVU與光刻機幾百項專利。

結語：

ASML（阿斯麥）態度的轉變說明他們已經感受到我國在光刻機研究上的進步。同時我國也不斷向光刻機研究所和企業投入研發基金，希望他們能夠有更多的突破與成果。

假如光刻機國產化那么ASML（阿斯麥）將失去中國市場。所以他們開始像之前一樣向中國出售光刻機，阻礙中國光刻機的發展。但是對于技術上的困難我們要突破，對于市場上的打壓我們要應對，只有科技發展國家才能走向更好的未來。

對于ASML（阿斯麥）“連夜”給我國企業交付光刻機，到底是為何？對此你有什么看法？

本文轉自:財經課堂