EUV光刻機是目前最先進的芯片生產制造,可以說,生產制造7nm以下制程的芯片基本上離不開EUV光刻機。
但EUV光刻機目前僅有ASML能夠生產制造,產能一直都在提升中, 2021年出貨量為42臺,計劃今明兩年生產制造EUV光刻機115臺。
遺憾的是,ASML的EUV光刻機從制造出來后,其就不能自由出貨,國內廠商早就全款訂購了一臺,至今都沒有到貨安裝。
不僅如此,EUV光刻機連出貨到外企中國分廠都受到約束,以至于SK海力士等都表態發聲了。
由于國內市場全球最大的芯片消費市場,每月生產制造集成電路數量約300億片,對光刻機等設備也有巨大的需求,所以ASML一直都在努力實現自由出貨。
可是,ASML已經多次明確表態,限制ASML等自由出貨不是好事情,只會加速其它廠商突破,甚至還學習高通發出了警告,但效果不佳。
在這樣的情況下,ASML也改變了方向。
據悉,今年第一季度,ASML就向國內出貨了23臺DUV光刻機,出貨速度遠超之前;
ASML還正式決定在國內擴大研發中心的規模,計劃擴招200名研發人員,下一步有望在國內建設光刻機維修中心等。
不僅如此,ASML還明確做出表態,擴大EUV光刻機產能,計劃在2025年實現EUV光刻機在全球的安裝使用率超過60%。
關鍵是,ASML還正式對外表示全新一代High NA EUV光刻機的原型機將會在2023年完成,2024年有望交付廠商測試、使用等。
要知道,EUV光刻機實現60%的安裝率,就意味著EUV光刻機必須要實現自由出貨。
而全新一代High NA EUV光刻機將可能在2024年交付,這就意味著2024年后,現有EUV光刻機不再是最先進的設備,理論上就可以實現自由出貨了。
面的這樣的情況,就有美媒表示ASML開始打擦邊球了,不僅加速出貨DUV光刻機等設備,擴大布局,還暗示EUV光刻機可能的自由出貨時間。
畢竟,國內廠商已經能夠量產14nm以及N+1等先進工藝的芯片,DUV光刻機的數量越多,國產先進制程芯片的產能就越大。
更何況,梁孟松也曾表示7nm芯片的研發任務已經完成,相關5nm芯片的研發工作也已經展開,EUV光刻機到貨以后,就能夠全面研發5nm芯片。
當然,ASML一邊加速出貨,一邊暗示EUV光刻機可能到來的時間,主要是因為國內市場已經成為ASML第三大市場,占比超過14%。
隨著國內芯片產能的不斷提升,國內市場對ASML的貢獻還會繼續提升,ASML自然是不愿意失去國內市場。
更何況,國產先進光刻機的制造技術和先進芯片技術曾不出窮,這都給ASML帶來了壓力。
例如,國產浸潤系統已經完成,消息稱,中試已經開始建設基地,為國產先進光刻機生產制造進行實驗。
而NIL工藝、先進的芯片封裝工藝以及堆疊技術的芯片都已經成為EUV光刻機的新威脅。原因是NIL工藝在不使用EUV光刻機的情況下,可以將芯片制程縮小至5nm。
而先進的封裝工藝和堆疊技術芯片在不改變芯片制程的情況下,前者將可以將芯片性能提升40%,后者可以將芯片多核性能翻倍提升。
所以ASML自然也著急,能多出貨就多出貨,能早出貨就早出貨,畢竟,市場高于一切,再加上,今年第一季度EUV光刻機的出貨量僅為3臺,實在太低了。
也正是因為如此,外媒才說ASML開始“打擦邊球”了。對此,你們怎么看,歡迎留言、點贊、分享。
本文轉自:白蘿卜科技
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