140臺EUV光刻機，ASML透露新消息，信息量很大

EUV光刻機是目前最先進的芯片生產設備，可以說，7nm以下芯片都離不開EUV光刻機。

所以EUV光刻機被生產制造出來后，各大廠商都爭相購買，尤其是臺積電、三星、英特爾。

數據顯示，EUV光刻機一半的出貨量都安裝在了臺積電，其次是三星，然后是英特爾，但由于EUV光刻機產能不足，三星想要更多EUV光刻機，甚至還親自前往荷蘭總部。

雖然EUV光刻機很先進，很多廠商也在爭相訂購，但ASML卻不能自由出貨，尤其是EUV光刻機。

據悉，EUV光刻機被生產制造出來后，其就不能自由出貨，是因為瓦爾森協議的緣故，芯片等規則被修改后，EUV光刻機也不能出貨到外企中國分廠。

要知道，國內市場是全球最大的芯片消費市場，英特爾都明確表示不會退出國內市場，再加上，三星、SK海力士等廠商在國內還有大量的芯片制造工廠。

可以說，國內對EUV光刻機的需求也很大，而ASML也急于向國內出貨先進的EUV光刻機。

ASML不僅多次明確表態，還向美發出了警告，甚至通過擴產、提升使用率等方式加速實現EUV光刻機自由出貨。

如今，ASML正式對外透露新消息，信息量很大，情況是這樣的。

根據外媒公布的消息可知，ASML稱其一共出貨了140臺EUV光刻機，而這些EUV光刻機的單臺售價約2億美元。

另外，ASML正在研發全新一代高孔徑值得EUV光刻機，該光刻機的原型機將會在2023年上半年完成，出貨交付給晶圓代工廠的時間將會在2025年。

可以說，ASML透露新一代高孔徑值得EUV光刻將會在2025年交付給各大芯片廠商使用，這一點的信息量是很大的。

首先，臺積電已經明確表示，其將會在2025年正式量產2nm制程的芯片，并計劃將芯片制程縮小至2nm以下，并展開了1.4nm等芯片的研發任務。

而ASML透露將會在2025年把全新一代高孔徑值的EUV光刻機交付給廠商使用，這意味著ASML全新一代高孔徑值的EUV光刻機主要就是用于生產制造2nm以下芯片的。

其次，ASML的EUV光刻機不能自由出貨，是因為瓦爾森協議的緣故，其規定最先進的設備不能向部分地區出貨。

由于EUV光刻機是最先進的芯片生產制造設備，所以其不能自由出貨，而DUV并非最先進的設備，其就可以自由出貨。

如今，ASML又正式對外透露，全新一代高孔徑值得EUV光刻機將會在2025年交付給廠商。屆時，現有EUV光刻機就不再是最先進的設備。

在這樣的情況下，現有EUV光刻機等設備理論上就能夠實現自由出貨了。

更何況，ASML還計劃在2025年實現全球EUV光刻機的安裝使用率高達60%以上，如果EUV光刻機不能實現自由出貨，這一目標是無法實現的。

綜合來看的話，ASML的EUV光刻機有望在2025年實現自由出貨，而且，希望還大的。

因為佳能、鎧俠等廠商已經推出 NIL工藝，該工藝在不使用EUV光刻機的情況，就能夠將芯片制程縮小至5nm，這一點將會在2025年實現。

另外，佳能、鎧俠等廠商也明確對外表示其計劃在全球范圍內推廣該技術，也就是說，如果ASML的EUV光刻機還不能自由出貨，市場就會被NIL工藝占領。

更何況，先進的封裝技術已經成為趨勢，廠商在不改變芯片制程的情況下，通過堆疊等技術依然可以打造出來性能強大的芯片，蘋果、華為等廠商已經開始這么做了。

也正是因為如此，才說140臺EUV光刻機， ASML透露新消息，信息量很大。對此，你們怎么看，歡迎留言、點贊、分享。

本文轉自:白蘿卜科技