ASML即將推出新一代光刻機，售價4億美元，中國有錢也買不到

根據阿斯麥透露的信息來，他們的新一代高數值孔徑EUV光刻機的原型機將在2023年上半年制造完成，頂級芯片供應商準備最早2025年開始使用上述產品的量產機。

而且新一代EUV光刻機售價要比目前的EUV光刻機翻一倍，目前EUV光刻機的售價大概在2億美元左右，而新一代EUV光刻機售價高達4億美元。

不過即便售價這么高昂，也并不是有錢就能夠買到，按照ASML一貫的作風，一旦這些頂級光刻機量產之后，他肯定會優先供應給他的一些股東們，包括英特爾、臺積電以及及三星等少數廠家，其他廠家很難訂購到這些最頂尖的光刻機，如此一來芯片行業還有可能進一步拉大差距。

對英特爾、臺積電以及三星這些頭部芯片制造商來說，擁有最頂尖的光刻機，他們生產出來的芯片性能要領先其他廠家一大截，如此一來，其他廠家根本就沒有競爭優勢。

對于我國芯片制造商來說，其實也存在很大的挑戰，一直以來光刻機都是制約我國芯片發展的技術瓶頸。

我國是全球最大的芯片消費國之一，每年進口的集成電路高達4,000億美元左右，同時目前我國也是全球最大的集成電路制造國之一，目前我國已經成為ASML最大的消費市場之一。

根據ASML2022年第一季度的財報數據顯示，其收入構成當中有，34%來源于中國大陸，這個比重相對于2021年第4季度的22%，有了大幅度的提升。

按照2022年第1季度ASML的銷量來推算，中國大陸購買的光刻機金額大約是13.5億美元。

盡管目前我國已經成為ASML最主要的消費市場之一，但ASML的最頂尖光刻機一直不愿意向我國出售，就算我們愿意出更高的價格購買，他們也不愿意賣，這是相當尷尬的一件事情。

而ASML之所以不愿意向我國出口最頂尖的光刻機，這里面既有歐美的阻撓，估計ASML的股東們也不太樂意向中國大陸出口頂級光刻機，畢竟一旦中國大陸坐擁最頂尖光刻機之后，這些頭部芯片制造商就會受到很大的挑戰。

面對這種局面，想要解決光刻機技術難題就只能靠我國自己了，不過過去十幾年我國在光刻機研發上也投入了很多，但是取得的效果并不是很明顯。

目前我國國產光刻機最先進的是由上海微電子設計出來的28納米光刻機，而且目前還沒有正式量產，這跟ASML的EUV光刻機差距是非常大的，跟他們即將量產的新一代EUV光刻機差距更大。

面對這種現實，我覺得我國光刻機有必要更改一下技術路線，不一定要跟隨ASML的步伐一頭埋進浸潤式光刻機技術路線當中。

在這條路線上ASML有積累、有資金、有技術、有供應鏈、有市場優勢，所以我們再怎么拼估計也拼不過他們，這時候還不如放手一搏，去攻破其他光刻機技術路線，就像當年ASML放手一搏一樣。

在2005年之前，ASML在光刻機市場只不過是一個小弟而已，當時真正的光刻機大佬是日本的佳能以及尼康，但是這兩個企業卡在了157納米技術路線上，然后他們一直在想方設法突破干式光刻機這個技術難題

不過面對光刻機技術瓶頸，當時ASML另辟蹊徑，采用了浸潤式光刻技術，他們不再片面的追求突破157納米路線，而是退回193納米，結果通過采用浸潤式光刻技術，他們一路開掛，遠遠把尼康和佳能甩在后面。

盡管后來尼康和佳能碰得頭破血流，終于攻破了157納米干式光刻技術，但是當他們反應過來的時候，干式光刻機已經沒有任何市場優勢。

所以從2005年之后，他們的市場份額不斷被ASML吞食，目前尼康和佳能在高端光刻機市場上完全已經不是ASML的對手。

這件事情給了我們很大的啟示，對我國光刻機而言，反正我們在極紫光技術方面很難追得上ASML，這時候還不如另辟蹊徑，通過加大對其他路線的研發投入，說不定未來還能夠實現彎道超車。

雖然研發新的路線可能會面臨很多困難，甚至會面臨產業鏈重塑，但是對于我國光刻機行業來說，反正我們也沒有什么可以失去的，那還不如放手一搏。

本文轉自:天蝎財經